Elektron: Revizyonlar arasındaki fark

[kontrol edilmiş revizyon][kontrol edilmiş revizyon]
İçerik silindi İçerik eklendi
Nanahuatl (mesaj | katkılar)
k düzeltme
Nanahuatl (mesaj | katkılar)
217. satır:
[[Elektron demeti|Elektron demetleri]], [[Kaynak (imalat)|kaynakta]] kullanılmaktadır.<ref>{{web kaynağı |son=Elmer |ilk=J. |tarih=3 Mart 2008 |başlık=Standardizing the Art of Electron-Beam Welding |url=https://www.llnl.gov/str/MarApr08/elmer.html |yayımcı=[[Lawrence Livermore Ulusal Laboratuvarı]] |dil=İngilizce}}</ref> {{nowrap|0,1-1,3 mm}} arasındaki odak çapı boyunca, {{val|e=7|u=W·cm<sup>-2</sup>}}'ye kadarki enerji yoğunluklarında elektron demetleriyle kaynak yapılabilir ve genellikle dolgu malzemesi gerektirmezler. Normalde kaynak için uygun olmayan iletken malzemeleri birleştirmek için kullanılan bu teknik, elektronların hedefe ulaşmalarından önce gazla etkileşimini engelleme amacıyla vakumda yapılmaktadır.<ref>{{kitap kaynağı |son=Schultz |ilk=H. |yıl=1993 |başlık=Electron Beam Welding |url=https://books.google.com/?id=I0xMo28DwcIC&pg=PA2 |sayfalar=2-3 |yayımcı=[[Woodhead Publishing]] |isbn=978-1-85573-050-2 |dil=İngilizce}}</ref><ref>{{kitap kaynağı |son=Benedict |ilk=G. F. |yıl=1987 |başlık=Nontraditional Manufacturing Processes |url=https://books.google.com/?id=xdmNVSio8jUC&pg=PA273 |seri=Manufacturing engineering and materials processing |cilt=19 |sayfa=273 |yayımcı=CRC Press |isbn=978-0-8247-7352-6 |dil=İngilizce}}</ref>
 
[[Elektron ışınlıdemeti basımlitografisi]], [[mikrometre]]den daha küçük çözünürlüklerdeki yarı iletkenleri aşındırma yöntemidir.<ref>{{konferans kaynağı |son=Özdemir |ilk=F. S. |tarih=25-27 Haziran 1979 |başlık=Electron beam lithography |url=http://portal.acm.org/citation.cfm?id=800292.811744 |çalışma=Proceedings of the 16th Conference on Design automation |sayfalar=383-391 |yayımcı=IEEE Press |yer=San Diego, Kaliforniya |dil=İngilizce}}</ref> Bu teknik; görece yüksek maliyetli olması, yavaş çalışması, ışınların vakumda çalışması gerekmesi, elektronların katılardaki dağılma eğilimi olması ve 10&nbsp;nm'ye kadar çözünürlük sınırı olması nedeniyle, özelleştirilmiş [[entegre devre]]lerin üretiminde kullanılmaktadır.<ref>{{kitap kaynağı |son=Madou |ilk=M. J. |yıl=2002 |baskı=2. |başlık=Fundamentals of Microfabrication: the Science of Miniaturization |url=https://books.google.com/?id=9bk3gJeQKBYC&pg=PA53 |sayfalar=53-54 |yayımcı=CRC Press |isbn=978-0-8493-0826-0 |dil=İngilizce}}</ref>
 
[[Elektron ışınıyla işleme]], [[fiziksel özellik]]lerini değiştirmek ya da tıp ve gıda ürünlerini [[Sterilizasyon|sterilize]] etme amacıyla metalleri radyasyona uğratmak için kullanılmaktadır.<ref>{{konferans kaynağı |son1=Jongen |ilk1=Y. |son2=Herer |ilk2=A. |tarih=2-5 Mayıs 1996 |başlık=Electron Beam Scanning in Industrial Applications |çalışma=APS/AAPT Joint Meeting |yayımcı=[[American Physical Society]] |bibcode=1996APS..MAY.H9902J |dil=İngilizce}}</ref> Elektron demetleri, yoğun radyasyonda sıcaklık artışına sebep olmadan camları akışkanlaştırır ya da sözde erimesini sağlar. Örneğin yoğun elektron radyasyonu, [[akmazlık]] şiddetinin ani, [[aktivasyon enerjisi]]nin ise aşamalı olarak düşmesine sebep olur.<ref>{{dergi kaynağı |son1=Mobus |ilk1=G. |display-authors=etal |yıl=2010 |başlık= Nano-scale quasi-melting of alkali-borosilicate glasses under electron irradiation |dergi=Journal of Nuclear Materials |cilt=396 |sayı=2-3 |sayfalar=264-271 |doi=10.1016/j.jnucmat.2009.11.020 |bibcode=2010JNuM..396..264M |dil=İngilizce}}</ref>
"https://tr.wikipedia.org/wiki/Elektron" sayfasından alınmıştır