Yarı iletken cihaz imalatı

Yarı iletken cihaz imalatı, yarı iletken cihazları, tipik olarak günlük elektrikli ve elektronik cihazlarda bulunan entegre devre (IC) yongalarında kullanılan metal oksit yarı iletken (MOS) cihazları üretmek için kullanılan süreçtir. Saf yarı iletken malzemeden yapılmış bir wafer üzerinde elektronik devrelerin kademeli olarak oluşturulduğu fotolitografik ve kimyasal işlem aşamalarının (yüzey pasivasyonu, termal oksidasyon, düzlemsel difüzyon ve bağlantı izolasyonu gibi) çok aşamalı bir dizisidir. Silisyum hemen hemen her zaman kullanılır, ancak özel uygulamalar için çeşitli bileşik yarı iletkenler kullanılır.

Ayrıca bakınız

• Moore yasası

Konuyla ilgili yayınlar

• Kaeslin, Hubert (2008), Digital Integrated Circuit Design, from VLSI Architectures to CMOS Fabrication, Cambridge University Press , section 14.2.
• Wiki related to Chip Technology 26 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.

Dış bağlantılar

• Silicon Wafers for Semiconductor Device Fabrication 9 Ekim 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
• Semiconductor glossary 1 Şubat 2006 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.
• Wafer heating
• Designing a Heated Chuck for Semiconductor Processing Equipment 10 Ağustos 2020 tarihinde Wayback Machine sitesinde arşivlendi.