Fotoelastisite: Revizyonlar arasındaki fark

[kontrol edilmiş revizyon][kontrol edilmiş revizyon]
İçerik silindi İçerik eklendi
YBot (mesaj | katkılar)
k düz.
6. satır:
Fotoelastisite olayı ilk olarak İskoçyalı fizikçi [[David Brewster]]<ref>D. Brewster,
 
Experiments on the depolarization of light as exhibited by various mineral, animal and vegetable bodies with a reference of the phenomena to the general principle of polarization, Phil. Tras. 1815, pp.29-53.</ref> tarafından tanımladı.<ref>D. Brewster, On the communication of the structure of doubly-refracting crystals to glass, murite of soda, flour spar, and other substances by mechanical compression and dilation, Phil. Tras. 1816, pp.156-178.</ref> Bununla ilgili ilk araştırma yapan Türk bilim adamı da [[Mustafa İnan]]'dır. Fotoelastisite yirminci yüzyılın ortalarında E.G.Coker ve [[Londra Üniversitesi]]<nowiki/>nden L.N.G. Filon’un birlikte yaptığı çalışmalarla geliştirildi. 1930 yılında, fotoelastisite üzerine yaptıkları tez Cambridge Basın tarafından yayımlandı. 1930 ve 1940 yıllarında, konuyla ilgili [[Almanca]], [[Rusça]] ve [[Fransızca]] birçok kitap ortaya çıktı.
 
Aynı zamanda bu alanda birçok geliştirme meydana geldi. Teknikte iyi geliştirmeler elde edilmişti ve ekipmanlar basite indirgenmişti. Teknolojideki gelişmelerle birlikte fotoelastisitenin kapsamı üç boyutlu gerilme hali için geliştirilmişti ve yakın zamanda popüler bir hale geldi. Birkaç fotoelastisite laboratuvarı eğitimsel enstitü ve endüstrisinde kuruldu.
14. satır:
== Prensipler ==
[[Dosya:Plastic Protractor Polarized 05375.jpg|thumb|<span>İletkideki gerilim çizgileri çapraz kutuplaşan ışık altında görülebilir.</span>]]
Metot kesin şeffaf maddeler tarafından sergilenen çift kırılma özelliğine dayalıdır. Çift kırılma özelliğinde ışın saçan ışık iki kırıcı indeksten geçen çift kırılan maddeye doğru gider. Çift kırılma özelliği ya da ışığın kırılması birçok ışık bilimsel [[kristal]]<nowiki/>lerde gözlenebilir. Gerilim uygulamasının üzerinde, fotoelastik maddeler çift kırılma özelliği sergiler ve madde içerisindeki her noktadaki kırıcı indeksin büyüklüğü bu noktadaki gerilimin durumuyla ilişkilidir. Maksimum teğetsel gerilme ve oryantasyonu gibi bilgiler polariskopla çift kırılma analizinde elde edilir.
 
Işık saçan [[ışık]] fotoelastik maddeden geçtiği zaman, fotoelastik maddenin elektromanyetik dalga bileşenleri iki esas gerilim yönünde çözümlenir ve bu bileşenlerden her biri çift kırılmadan dolayı farklı kırıcı indekse maruz kalır. Kırıcı indeks arasındaki farklılıklar iki bileşen arasında ilgili [[faz]] yavaşlamasına neden olur. [[İzotropik]] materyalden oluşan ince bir örnek varsayıldığında iki boyutlu fotoelastisite uygulanabilir. İlgili yavaşlatmanın büyüklüğü gerilim-optik yasasıyla bulunur:<ref>Dally, J.W. and Riley, W.F., ''Experimental Stress Analysis,'' 3rd edition, McGraw-Hill Inc., 1991</ref>
"https://tr.wikipedia.org/wiki/Fotoelastisite" sayfasından alınmıştır